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        高真空硬碳膜制備系統--FHL600
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        高真空硬碳膜制備系統--FHL600

        本系統為單室立式結構的高真空鍍鍍膜設備,可用于開發單層膜-類金剛石膜等。系統主要由鍍膜室、靶電極、射頻電源、樣品轉臺、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統、加熱控溫系統、水冷卻系統等組成。
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        產品編號
        真空室結構:
        圓筒形上升蓋
        真空室尺寸:
        φ600×500mm
        極限真空度:
        ≤6.0E-4Pa
        沉積源:
        樣品尺寸,溫度:
        φ240mm,1片,水冷卻
        占地面積(長x寬x高):
        約3米×1.1米x2米
        電控描述:
        全自動
        工藝:
        提供標準鍍膜工藝
        特色參數 :
        1路工作氣路,2路備用氣路
        數量
        -
        +
        庫存:
        1
        產品描述
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        產品概述:
        本系統為單室立式結構的高真空鍍鍍膜設備,可用于開發單層膜-類金剛石膜等。系統主要由鍍膜室、靶電極、射頻電源、樣品轉臺、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統、加熱控溫系統、水冷卻系統等組成。

        設備用途:
        可用于開發類金剛石膜等
         

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