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        金屬有機源氣相沉積系統--MOCVD
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        金屬有機源氣相沉積系統--MOCVD

        MOCVD系統主要由真空室反應系統、氣體(載氣與氣相有機源)輸運控制系統、有機源蒸發輸運控制系統、電源控制系統、尾氣處理及安全保護報警系統組成。
        零售價
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        產品編號
        所屬分類
        MOCVD鍍膜設備
        真空室結構:
        臥室
        真空室尺寸:
        Ф400mm×300mm(L)
        極限真空度:
        10 Pa
        沉積源:
        設計待定
        樣品尺寸,溫度:
        設計待定
        占地面積(長x寬x高):
        約4.5米x3.5米x3米(設計待定)
        電控描述:
        屏幕操作
        工藝:
        不含工藝
        特色參數 :
        數量
        -
        +
        庫存:
        1
        產品描述
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        產品概述:
        MOCVD系統主要由真空室反應系統、氣體(載氣與氣相有機源)輸運控制系統、有機源蒸發輸運控制系統、電源控制系統、尾氣處理及安全保護報警系統組成。

        設備用途:
        MOCVD系統作為化合物半導體、超導等薄膜材料研究和生產的手段,特別是作為工業化生產的設備,有著其它半導體設備無法替代的優點。它的高質量、穩定性、重復性及多功能性越來越為人們所重視。它是當今世界上生產半導體光電器件和微波器件材料的主要手段,如激光器、發光二極管、高效太陽能電池、光電陰極等,是光電子等產業不可缺少的設備。
         

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